پارس ناز پورتال

چگونگی لایه برداری شیمیایی صورت

چگونگی لایه برداری شیمیایی صورت

لایه برداری شیمیایی یكی ازمتدهای رایج برای بازسازی  ( resurfacing) پوست میباشد و با ایجاد زخم كنترل شده دراپیدرم وجایگزینی بخشی ازاین لایه ویاتمام آن موجب نوسازی كلاژن ( collagen remodenig ) گشته كه نتیجه ی آن بهبودفرایندهای تخریبی ناشی ازنورخورشید ، چروك ، ناهنجاری های رنگدانه ای ، وجای زخم میشود . لایه برداری شیمیایی برحسب عمق زخمی كه ایجاد می كنندبه سه گروه سطحی ، نیمه عمقی وعمقی  تقسیم میشوند . در لایه برداری سطحی (superficial) فقط به لایه اپیدرم نفوذمیكنند درحالی كه لایه برداری متوسط ( medium-depth) تمامی اپیدرم و لایه پاپیلاری درم تا بخش فوقانی رتیكولاردرم را برداشته ودرلایه برداری عمقی ( deep) تابخش میانی رتیكولاردرم زخمی میگردد . هركدام ازاین متدها بخشی ازآسیب های ناشی از نور خورشید و ناهنجاری های رنگدانه ای راموردهدف قرار میدهند . مدت زمان بهبودی وعوارض نیزبه همین نسبت متفاوت هستند وبرخی ازانواع لایه برداری برای بعضی ازانواع پوست مناسب ترهستند . بنابراین برای به حداكثررسایدن تاثیرلایه برداری وبه حداقل رسیدن عوارض جانبی بایستی بتوانیم لایه بردارشیمیایی مناسب بیماررا انتخاب كنیم.

لایه برداری سطحی (superficial chemical peels)

این متدلایه برداری خودبه دو گروه بسیارسطحی (very light)  و سطحی (light) تقسیم میگردد كه درذیل به تفكیك شرح داده میشود :

در لایه برداری بسیارسطحی ( very light chemical peeling) از تری كلرواستیك اسید (TCA) باغلظت 15-10 درصد ؛ آلفاهیدروكسی اسید (A.H.A) مثل گلیكولیك اسیدبا غلظت 50-30 درصد ؛ بتاهیدروكسی اسید همانند سالیسیلیك اسید ؛ رزورسینول %30-20 ؛ ترتینویین موضعی ؛ محلول جسنر (jessner’s solution) كه تركیبی از %14 رزورسینول و %14 سالیسیلیك اسید و %14 لاكتیك اسید واتانول میباشد .  تركیبات ذكرشده دربالا توانایی نفوذبه لایه استراتوم كرنئوم ( لایه شاخی خارجی ترین لایه اپیدرم ) و تاحدودی استراتوم اسپونیوزوم ( لایه دانه دار كه لایه زیرین شاخی میباشد ) را دارندكه به دلیل همین نفوذ بسیار سطحی دراپیدرم گزینه مناسب وایمنی برای تمامی انواع پوست میباشند .

باتوجه به اینكه پس ازانجام لایه برداری بسیارسطحی پوسته ریزی خفیفی (Exfoliation) ایجاد میشود میتوان فهمیدكه برای رسیدن به نتیجه ی مطلوب انجام لایه برداری یك نوبت كافی نبوده و بایستی درجلسات متوالی صورت پذیرد . نتیجه برداشته شدن لایه شاخی بهبود نمای ظاهری پوست ، بهبود لكهای پوست همانند ملاسما و لكهای ناشی ازنورخورشید (Solar Lentiges) میباشد . تغیررات رنگدانه ای بدنبال التهاب ایجادشده كه اصطلاحا ( post inflammatory hyperpigmentation)  وبصورت مخفف PIH نامیده میشوند پس از این نوع لایه برداری مرسوم نبوده ولی ممكن است اتفاق بیفتند .

ازگلیكولیك اسید كه جزو گروه آلفاهیدركسی اسیدها A.H.A میباشد ونیز سالیسیلیك اسید میتوان برای درمان آكنه ولگاریس كمك گرفت . این اسیدها بااثركراتولیتیك به كاهش كومدون هانیزكمك مینمایند علی الخصوص سالیسیلیك اسید كه تركیبی چربی دوست ( لیپوفیل ) بوده وقادربه نفوذ به واحدهای چربی میباشد . پس ازمصرف این اسیدها پوسته ریزی واضح (Scaling) ، قرمزی (Erythema) ، وPIH  عمدتااتفاق میافتد وعموما خودبخودبدون به جاماندن آثارطولانی مدت بهبود میابد . بایستس خاطرنشان كرد كه بهتراست دربیماران دارای تیپ پوستی IV تا VI گروه بندی فیتزپاتریك ( پوستهای تیره ازسبزه تیره تاسیاه ) در صورت استفاده ازسالیسیلیك اسید برای پیلینگ بسیارسطحی  احتمال ایجاد PIH كاهش میابد  .

در لایه برداری سطحی (Light chemical peeling) از تری كلرواستیك اسید (TCA) باغلظت %35-20 درصد ؛ گلیكولیك اسید%70-50 ، رزورسینول %50-30 ونیزمحلول جسنر میتوان بهره برد . این سبك لایه برداری به نسبت روش قبلی بسیارسطحی دردرمان ضایعاتی همچون آكتینیك كراتوزیس ، سولار لنتیگو و كراتوزسبورئیك موثرتر است و طبیعی است كه نمای ظاهری پوست (Skin Texture)  نیز بهبودمیابد . پس ازاین نوع پیلینگ قرمزی و پوسته ریزی واضح خواهیم داشت ودرصورتی كه بیمارراازدوهفته قبل تحت درمان موضعی ترتینویین قرارداده باشیم مدت زمان بهبودی زخم حاصله از لایه برداری كاهش خواهد یافت .

به خاطرداشته باشیم كه هرچند بصورت تئوری میتوانیم ازلایه برداری بسیارسطحی وسطحی  برای تمامی انواع پوست استفاده بكنیم ولیكن بایستی درمواجهه باپوستهای تیره تراحتیاط بیشتری نماییم كه پزشك حاذق باشناخت ماهیت اسیدهای موجودوكمی باریك بینی میتواندنتیجه ی بهتروایمن تری راحاصل نماید .

لایه برداری نیمه عمقی (Medium depth)

برای رسیدن به این هدف میتوان از TCAباغلظت 50-35 درصد یا گلیكولیك اسیدباغلظت 70 درصد استفاده جست ، ازطرفی TCA با غلظت 50 درصدریسك زیادی برای ایجاد اسكار و هیپرپیگمنتاسیون (PIH) داشته كه استفاده ازآنرامحدودبه ضایعات لوكالیزه  مینماید ولیكن میتوان از TCA بادرصدپایین تر در حد%35 درصد بصورت تركیب باسایراسیدها همانند محلول جسنر یا گلیكولیك اسید %70 برای اهداف وسیعتر ونه فقط لوكالیزه استفاده نمود كه نتیجه آن عمق نفوذی برابر با TCA 50% ولی باریسك ایجادعوارض بسیاركمتری خواهدبود . نیازبه بیان نیست كه تاثیرلایه برداری نیمه عمقی به نسبت دوموردیادشده قبلی دراصلاح ودرمان بیماری های ذكرشده بسیاربیشتر بوده ومسلما نمای ظاهری پوست بهتری خواهیم داشت . باردیگرخاطرنشان میكنیم كه بیماران  دارای تیپ های پوستی تیره ( 4 تا 6 ) ریسك ایجاد PIH بیشتری نسبت به پوستهای روشنترداشته و این احتمال درپیلینگ نیمه عمقی به نسبت انواع سطحی بیشترمیباشد كه دربرخی موارداین عارضه به مدت چندین سال مزمن خواهدشد و استفاده از هیدروكینون وكوجیك اسید قبل یابعد از پیلینگ میتواند این ریسك را تاحدودی كاهش دهد .

پس ازلایه برداری نیمه عمیق بیماران پوسته ریزی بصورت Desquamation و اریتم رابه مدت حدود 10-8 روز خواهند داشت .

یكی ازتركیبات كمتررایج وپرعارض دارتر جهت این نوع پیلینگ فنول  88 درصدمیباشد كه به جهت سمیت قلبی وكلیوی آن علیرغم جذب كم پوستی ، بایستی بیماردرحین پیلینگ تحت مانیتورینگ باشد و حتی گاهی برای بیماردرحین عمل ازنرمال سالین وریدی استفاده میشود .

دوگروه ازبیماران هستندكه ازلایه برداری نیمه عمقی سودی نمیبرند وشامل آكنه و روزاسه میباشد . بیماران روزاسه بدنبال این متددچاراریتم طولانی مدت شده وبیماران آكنه نیزبرافروختگی خواهند داشت كه احتمالابه خاطر التهاب و تورم پوست ویامصرف امولینت های قوی پس ازانجام لایه برداری است .

درلایه برداری عمقی (Deep chemical peeling) كه به كمك فنول قابل انجام است چین های عمقی پوست ، اسكارهای آكنه ، شل شدگی پوست (Skin Laxity) بصورت قابل ملاحظه ای بهبودمیابد ولی باتوجه ریسك ایجادPIHماندگارتوصیه میشودفقط برای پوستهای روشنتر(تیپ 1 و2 فیتزپاتریك) استفاده شود .

همچنین محلول Baker-Gordon كه تركیبی ازروغن كرچك هندی (Croton Oil) و فنول و محلول Septisol میباشد نیزتوانایی لایه برداری عمقی راخواهدداشت .  پس ازپیلینگ عمقی پوسته ریزی واریتم به مدت 14 روز ادامه خواهد داشت وبهبودی بیمار ممكن است تا 4 هفته به طول بیانجامد .

در برخی ازمنابع علمی كارایی لایه برداری عمقی را بالیزر جوانسازی CO2 قابل قیاس دانسته اند .